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      PECVD系統
PECVD系統
 
PECVD系統 產(chǎn)品簡(jiǎn)介為了降低化學(xué)沉積溫度,利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應,這種CVD系統稱(chēng)之為等離子.....更多>>
      CVD系統
CVD系統
 
 CVD系統產(chǎn)品簡(jiǎn)介 常規CVD系統由管式爐、流量混合器、真空體統三部分組成。改系統可以滿(mǎn)足絕大部.....更多>>
      旋轉管式爐
旋轉管式爐
 
旋轉管式爐 產(chǎn)品簡(jiǎn)介旋轉管式爐是指爐管通過(guò)電機驅動(dòng)實(shí)現360°正反轉,讓內部的粉狀或顆粒狀樣品能夠充.....更多>>
1500-1700℃多溫區管式爐
 
1500-1700℃多溫區管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介多溫區管式爐主要用在CVD實(shí)驗和需要多個(gè)溫度梯度的環(huán)境中。將多個(gè)溫區設置.....更多>>
1500-1700℃單溫區管式爐
 
1500-1700℃單溫區管式爐 產(chǎn)品簡(jiǎn)介高溫管式爐主要用在高于1200℃的氣氛反應燒結中,其中1500型管式爐可.....更多>>
1200℃三溫區管式爐
 
1200℃三溫區管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介多溫區管式爐主要用在CVD實(shí)驗和需要多個(gè)溫度梯度的環(huán)境中。將多個(gè)溫區設置為同一.....更多>>
1200℃雙溫區管式爐
 
1200℃雙溫區管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介多溫區管式爐主要用在CVD實(shí)驗和需要多個(gè)溫度梯度的環(huán)境中。將多個(gè)溫區設置為同一.....更多>>
1200℃單溫區管式爐
 
1200℃單溫區管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介1200℃管式爐是在實(shí)驗室熱處理中常用的一款設備,主要用于氣氛保護或者氣氛反應.....更多>>
1200℃迷你型管式爐
 
1200℃迷你型管式爐產(chǎn)品簡(jiǎn)介這款迷你型管式爐體積小巧,性?xún)r(jià)比極高,而且可以滿(mǎn)足絕大部分氣氛環(huán)境下的實(shí)驗.....更多>>
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